Основы фотолитографического процесса

Фотолитография — процесс формирования на поверхности подложки (или основания изделия) элементов приборов микроэлектроники с помощью чувствительных к высокоэнергетическому излучению (ультрафиолетовому свету, электронам, ионам, рентгеновским лучам) покрытий, способных воспроизводить заданное взаимное расположение и конфигурацию этих элементов. На рис. 1 показано схематическое изображение литографического процесса.

Рис. 2.1. Схематическое изображение типичного фотолитографического процесса: П. и Н. – позитивная и негативная резистная маска.

Поставлены цели: изучить основные этапы процесса фотолитографии, ознакомиться с используемыми материалами и приспособлениями.

• Формирование слоя фоторезиста. Фоторезисты и их свойства
• Формирование защитного рельефа
• Травление подложки с защитным рельефом и удаление защитного рельефа
• Организация производства фотолитографического процесса

Другие публикации

Аберрационный расчет зеркально-линзового теплопеленгатора
В настоящее время, в связи с прогрессивными темпами развития ракетной техники, встает вопрос о своевременном обнаружении ракет и военной техники вероятного противника ...

Разработка электронного функционального устройства, реализующего передаточную функцию
Целью настоящего курсового проекта является разработка электронного функционального устройства реализующего заданную передаточную функцию. Разработка устройства ...