Основы фотолитографического процесса

Фотолитография — процесс формирования на поверхности подложки (или основания изделия) элементов приборов микроэлектроники с помощью чувствительных к высокоэнергетическому излучению (ультрафиолетовому свету, электронам, ионам, рентгеновским лучам) покрытий, способных воспроизводить заданное взаимное расположение и конфигурацию этих элементов. На рис. 1 показано схематическое изображение литографического процесса.

Рис. 2.1. Схематическое изображение типичного фотолитографического процесса: П. и Н. – позитивная и негативная резистная маска.

Поставлены цели: изучить основные этапы процесса фотолитографии, ознакомиться с используемыми материалами и приспособлениями.

• Формирование слоя фоторезиста. Фоторезисты и их свойства
• Формирование защитного рельефа
• Травление подложки с защитным рельефом и удаление защитного рельефа
• Организация производства фотолитографического процесса

Другие публикации

Нелинейное представление информации, гипертекст и его использование в коммуникации
В эпоху современных информационных технологий новые формы коммуникации получают стремительное распространение. Наряду с привычным средствами массовой информации (прес ...

Настройка локальной сети и подключения к сети интернет для Windows XP и Windows 7
Компьютерные сети - нейроны современного бизнеса, приводящие в движение мышцы капиталов, производственных мощностей и товарооборота. Монтаж компьютерных сетей - сам ...